CHẾ TẠO MÀNG MỎNG VANADIUM PENTOXIDE BẰNG PHƯƠNG
PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON DC
Nguyễn Đức Hảo1, Lê Văn Hiếu1, Hoàng Lương Cường1
1Khoa Vật lý, Trường Đại học Khoa học Tự nhiên-ĐHQG Tp. HCM
 

Tóm tắt
    Màng mỏng vanadium pentoxide (V2O5) được lắng đọng bằng phương pháp phún xạ magnetron DC từ bia kim loại vanadium (99.5%, đường kính 75 mm, dày 5 mm). Khi thay đổi các thông số tạo màng như tỉ lệ khí O2/(O2+Ar), cường độ dòng phún xạ, khoảng cách bia-đế …, màng được tạo thành có màu vàng và độ truyền qua tương đối cao (70 -80% ở bước sóng 600 nm). Phổ XRD cho thấy màng được phủ ở tỉ lệ khí 25%, cường độ dòng 0.2A có cấu trúc tinh thể, phát triển mạnh theo định hướng (001) đặc trưng cho tinh thể V2O5 ngay cả ở nhiệt độ đế thấp (200oC).
    Từ khóa: Vanadium pentoxide, V2O5, phún xạ magnetron DC.
 

SPUTTERING VANADIUM PENTOXIDE FILMS: PREPARATION
AND PROPERTIES
Nguyen Duc Hao1, Le Van Hieu1, Hoang Luong Cuong
1 Faculty of Physics, University of Science-VNU HCMC
 

Abstract
    The vanadium pentoxide (V2O5) films were deposited by reactive d.c magnetron sputtering from a vanadium metal target with 99.5% V, diameter 75 mm, thickness 5 mm. By change sputtering parameters such as O2/(O2+Ar) ratio, current density, the targetsubstrate distance, … the resulting V2O5 films have a yellow color and high transmittance (70-80% at 600 nm wavelength). By X-ray diffraction, it was found that films sputtered with 25% O2/(O2+Ar) ratio, current 0.2A grow preferentially in (001) orientation, typical of crystalline V2O5. On the other hand the films deposited at low substrate temperature (200oC) were well textured and c-axis oriented with good crystalline properties.
    Key words: Vanadium pentoxide, V2O5, d.c sputtering;