SỬ DỤNG PHƯƠNG PHÁP MÔ PHỎNG QUÁ TRÌNH PHÚN XẠ MAGNETRON VÀ PHƯƠNG PHÁP TƯƠNG QUAN ĐỂ TẠO MÀNG

VÀ NGHIÊN CỨU MÀNG MỎNG Al₂O₃

 

Giang Văn Phúc , Lê Vũ Tuấn Hùng¹, Nguyễn Văn Đến¹, Huỳnh Thành Đạt²

^a) Đại học An Giang, AnGiang

¹ Khoa Vật lý, Trường Đại học Khoa học Tự Nhiên

 ² Đại học Quốc Gia , Tp Hồ Chí Minh

 

Tóm tắt:

 

            Al₂O₃ được ứng dụng rộng rãi nhờ các tính chất bền cơ, nhiệt và hóa học.

Mục tiêu của bài viết này là mô phỏng dựa trên  phương pháp Monte Carlo để xác định các điều kiện thích hợp nhằm phún xạ  màng Al₂O₃ từ vật liệu  Al kim loại bằng hệ phún xạ mangetron RF và DC. Màng Al₂O_3­ sau khi phủ xong sẽ được xử lý chuyển pha và được nghiên cứu tiếp bằng các phương pháp quang phổ. Trong đó, phương pháp tương quan được sử dụng để xác định phổ dao động của vật liệu màng.

            Các kết quả bao gồm (a) các phân bố góc và năng lượng phún xạ ban đầu, (b) quá trình chuyển dời các hạt phún xạ, (c) phân bố không gian, năng lượng và góc của hạt phún xạ ở bề mặt đế, (d) sự lắng đọng của màng có tính đến sự khuếch tán. (e) Phổ dao động lý thuyết của màng Al­₂O₃.

            Các kết quả được so sánh với các kết quả tương tự của các tác giả khác và với kết quả thực nghiệm để hòan thiện.

 

THE INVESTIGATION OF AL₂O₃ THIN FILM USING

 THE SIMULATION OF THE MAGNETRON SPUTTERING AND CORELATION METHOD.

 

Giang van Phuc, Le Vu Tuan Hung¹, Nguyen Van Den¹, Huynh Thanh Dat ²

AnGiang University , An Giang province

¹ Faculty of Physics, University of Natural Sciences

 ² National University of HCMC

 

Abstract:

 

            Al₂O₃ is used for their properties of anti erosion and anti atomic oxygen effects.

The aim of this paper is the simulation which based on the Monte Carlo methodto determine the convenient conditions to sputter Al₂O₃ thin film from Al with our equipment system. The film will be changed into the different phases and investigated by the spectrosopy methods. And the correlation method is used for determine their IR spectra.

            The results of this work included (a) the initial energetic and angular distributions of sputtered atoms, (b) the transport process of sputtered particles, (c) the spatial, energetic and angular distribution of sputtered atoms at the substrate, (d) the sputtered atom deposition including the diffusions. (e) The calculated IR spectra of Al₂O₃.

These results have been compared to those of the other authors and to the results of experimental investigations for the accomplishment.