CHẾ TẠO MÀNG DẪN ĐIỆN TRONG SUỐT SnO₂ : Sb

BẰNG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON PHẢN ỨNG

 

Lê Văn Ngọc,Trần Tuấn, Hùynh Thành Đạt¹,Thái Gia Cát Vy

Khoa Vật Lý, Trường Đại học Khoa học Tự Nhiên

¹ Đại học Quốc gia Tp.HCM

Tóm tắt:

 

Màng điện cực trong suốt SnO₂:Sb được chế tạo bằng phương pháp phún xạ magnetron phản ứng. Quá trình tạo màng được thực hiện trong hệ chân không - có thể đạt đến 10^-5 torr - với vật liệu bia hợp kim Sn(95% w) Sb (5% w) trong hỗn hợp khí Ar ( 99.99%) và O₂ (99.999%). Một số tính chất quang điện và cấu trúc màng cũng được khảo sát.

 

Keyword: transparent conductive thin films, SnO₂:Sb.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PREPARING TRANSPARENT CONDUCTIVE SnO₂ : Sb THIN FILM BY MAGNETRON SPUTTERING METHOD REACTIVE

 

Le Van Ngoc, Tran Tuan, Huynh Thanh Dat¹, Thai Gia Cat Vy

Faculty of Physics, University of Natural Sciences

¹ National University of HCMC

 

Abstract:

 

The transparent electrode  SnO₂:Sb  thin films was prepared by magnetron reactive sputtering method. The depositing process is carried out in vacuum system, which can get 10^-5torr, with the alloy Sn(95%w)Sb(5%w)  targets  in gas mixture of Ar (99,99%) and O₂ (99,99%). Some of optical, electrical properties and structure of film are studied.